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射頻等離子體去膠機是一種專門用于去除材料表面膠層或高分子物質的設備，其利用高頻電場產生的等離子體進行化學反應，將各種高分子物質轉化為易于處理的低分子物質，從而實現(xiàn)去膠的目的，這個工藝通常又被稱為灰化工藝，射頻等離子體去膠技術是一種高效、環(huán)保的去膠方法，它無需使用化學溶劑和水,可以有效避免污染和廢棄物處理難題。射頻等離子體去膠機通常包含射頻電源、反應腔體、氣體控制系統(tǒng)和真空系統(tǒng)等部分，射頻電源用于產生高頻電場，反應腔體是等離子體產生的場所，氣體控制系統(tǒng)用于控制反應氣體的種類和流量，真空系統(tǒng)則用于維持腔體內的低壓環(huán)境，促進等離子體的形成和化學反應的進行，設備真空腔體里面內置若干電極板，可以用于小批量去膠，提高生產效率。

采用氣體離子化的方式來轟擊去除光刻膠，保證了器件的完整性。射頻等離子體去膠機適用于玻璃、金屬種子層、硅片、壓電陶瓷等各類襯底，通過等離子轟擊不僅可以去除表面的殘膠，還能活化襯底，改善其表面的親水性能。